6寸立式LPCVD炉管设备
功能
技术参数
Bhadra™立式LPCVD BLD150
功能
应用于6英寸低压化学气相沉积，生长出的薄膜具有高纯度、高均匀性和较好的台阶覆盖能力
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86-18924169069 / 020-31569374
技术参数
晶圆尺寸：6英寸
工艺类型：应用于Poly、Nitride、TEOS工艺
多晶硅（Poly）:作为栅极和虚设栅极（Dummy Gate）
氮化硅（Nitride）:用做硅片最终的钝化保护层、掩膜工艺和浅槽隔离工艺
二氧化硅（TEOS）：应用于绝缘膜、浅槽隔离的填充物
适用材料：硅、碳化硅
应用领域：功率半导体、科研
